第147章 四重曝光工艺良率大幅提升，晶圆厂的动力

第147章 四重曝光工艺良率大幅提升，晶圆厂的动力 (第2/2页)

于东内心也是很感慨，哪怕上次跟纪弘交谈的时候，纪弘就跟他说过产线优化和升级的事儿，但看到最终的效果的时候，他还是很诧异——计划跟结果从来都不是完全一体的，纪弘说的时候，也只是说要尝试。
　　
　　但结果真正摆在眼前的时候，那剩下的就唯有震撼了——毕竟，这是他们努力了两年都没能做到的事情。
　　
　　纪弘过去才多久？一个月不到吧？也就二十天！
　　
　　这一次来河州之前，华为再次开了一次临时的董事大会，确定了类思维AI对工业领域，尤其是精密工业领域，也有着非常大的作用。
　　
　　这就完全不得了了。
　　
　　卷耳智能科技在华为那里的分量又大了一分。
　　
　　而于东此行，目的很明确：给自家所有产线按照纪弘的这个标准进行系统重构和改造——之前纪弘给他们的只是晶圆和掩膜版对准工艺提升的一个算法。
　　
　　“其实暂时没必要。”纪弘说道：
　　
　　“给你们的那个就是这次主要优化和改动的部分，其他环节优化的有限。良率和产能的提升也很小，只是稳定性稍微好了一点点。
　　
　　“没有必要再次停机去做升级，不够耽误时间的。”纪弘建议道：“不如等到EDA这边开发测试完成了，再统一一次性搞定。”
　　
　　“也行！”于东急匆匆的过来，其实更多的是态度。
　　
　　原本，于东对纪弘整合EDA和晶圆工厂，还持有乐观但谨慎的态度——想要如此多的晶圆厂共同配合，难度实在是太高了。
　　
　　但现在，晶圆厂的动力来了。
　　
　　就不说灵韵EDA怎么样，光是对产线改造的这种效果，尤其是良率和产能的提升，哪个晶圆厂能够拒绝啊？
　　
　　良率和产能，对于晶圆工厂来说，那就是生命啊！
　　
　　到了这个程度，纪弘对整合EDA和晶圆工厂的谋划，可以说已经成功了一大半，剩下的，就看时间了。
　　
　　于东这次来，也是给纪弘送助力的——他又带来了一批华为的EDA团队成员，加入高级别灵韵的开发中。
　　
　　“嗯，”纪弘点了点头：“我正头疼缺人的问题呢，于总这真是雪中送炭啊！”
　　
　　EDA的开发工作量非常大，哪怕有灵犀也不能完全解决这个问题。
　　
　　关键点就在于不同产线需要不同的调整，尤其是“流片式仿真”这个模块，仿真工具想要做到流片的效果，那就要求仿真的原始数据和真实产线的情况一一匹配，说通俗一些，就是要把产线映射到工具里，将产线数字化。
　　
　　每一条产线，哪怕是同时建设、设备一致的产线，细微处可能都略有不同，而且经过不断的运行，相关的东西也会产生一些细微的变化，所以，想要做到流片式的仿真，还需要不断的根据产线的运转情况进行参数调整。
　　
　　哪怕有灵犀、有强大的AI辅助，这个工作量也是非常庞大的。
　　
　　华为也正是看到这一点，再一次的精简了自己的人员，送来卷耳智能科技这边——以灵韵现在的进度和能力，华为也已经决定后续芯片设计渐渐地转到灵韵这个平台了，自己那边的EDA渐渐退场。
　　
　　……
　　
　　纪弘和于东在交流，张建在一旁听着，内心也是感慨不已。
　　
　　他还记得，第一次跟纪弘提及高端产能不足这个情况的时候，纪弘随口说了一句：我来解决，不够挤也要挤出来。
　　
　　当时，他还不太明白，这个挤是怎么挤的。
　　
　　但现在他明白了——就光这一个系统的改造，就提升了至少20%以上的高端产能！